多弧离子镀膜工作原理？

     多弧阴极根据靶材的不同,能够稳定工作的电流是不一样的,例如：如果是Cr靶,可以在60A左右就可以稳定工作,Ti靶在70A左右可以稳定工作,Zr的稳弧电流稍高一些,大约在100A左右,阴极的工作电压在20V-30V之间. 镀膜时,比如你要做TIC黑膜,就必须选用Ti靶,TI的工作电流在70A,工作电压在25V左右,需要向真空室内充入C2H2气体,镀膜时的真空度要保持在0.5Pa左右,一般情况下,是用分子泵或者扩散泵来抽取这些气体,使得真空室保持一定的压力,此时的滑阀泵和罗茨泵充当分子泵或者扩散泵的前级泵,是一直要开着的。

 

    多弧离子镀膜怎么镀绿色？

     物理气相沉积(PVD)技术制备TiN涂层具高硬度、高耐磨性低摩擦系数等特性工业产已获广泛应用其与基体结合力较弱、脆性、易剥落特别耐高温性能面存缺陷限制进步发展TiN涂层引入AlTiAlN涂层硬度、耐磨性、高温氧化性及与基体间结合强度等面表现比TiN涂层更优异性能高速钢及硬质合金刀具耐磨零部件等面广泛应用。

     高速钢沉积与其硬度、弹性模量及热膨胀系数差异较硬质陶瓷涂层难保证涂层与基体间结合强度外形状复杂高速钢麻花钻沉积均匀硬质涂层更困难lz剖文采用集电枪等离增强、非平衡磁控溅射弧离镀三种技术于体物理气相沉积(PVD)设备结合三轴品转台几何形状较复杂高速钢麻花钻尝试沉积均匀具渡层结构TiAlN涂层并干态环境TiAIN涂层高速钢麻花钻涂层高速钢麻花钻1Crl8Ni9Ti锈钢进行比性连续钻削试验

     采用电枪等离增强、非平衡磁控溅射弧离镀3种物理气相沉积(PVD)技术高速钢麻花钻沉积TiAIN单层涂层涂层硬度、涂层与基体结合强度、微观形貌进行测试及析并TiAlN涂层高速钢麻花钻1Crl8Ni9Ti锈钢进行干态钻削试验结表明高速钢麻花钻基体所制备TiAIN涂层具良力性能使高速钢麻花钻使用寿命提高4倍。