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电弧离子镀的应用

文章出处:网责任编辑:作者:人气:-发表时间:2022-04-14 17:25:40 【

   电弧离子镀做为工业生产镀膜生产及科研中最重要的工艺中的一种,因为其构造简便、离化率高、入射点顆粒动能高、绕射性好、可做到低温沉淀等一连串优势,使电弧离子镀工艺得到迅速發展并得到广泛运用,展现出非常大的社会经济效益和工业生产应用前景。可是因为电弧离子镀里面大顆粒的普遍存在,严重影响了镀层和薄膜的性能指标和使用寿命。所以相关如何解决阴极电弧镀里面大顆粒问题对阴极电弧的發展影响非常大,变成妨碍电弧离子镀工艺更深层次广泛运用的存在的问题。

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  全部的磁场设计是考虑到在靶面上生成相应的磁场位形,借助钝角规律局限弧斑的活动,借助横向分量提升弧斑的活动速度。不仅尽量扩张横向分量的范围与強度,不仅局限弧斑的活动,要做到较为满意的作用是很艰难的。并且全部的磁场设计均是静态式的的或是准静态式的的,模式固定,在提升弧斑速度和放电稳定性能的与此同时极容易造成靶材使用率低的问题。
  弧源是多弧离子镀技术设备的主要核心部件。现在中国国内公司企业广泛可以选用小弧源,中国60~80毫米,薄厚为中国的1/2。几离子镀膜机选用圆柱体弧源设计,1台镀膜机只从真空室里面安裝1个柱状弧,产品工件安裝在周围。外国某些离子镀膜机速度中国100毫米、广泛约为中国1/4的大弧源。1台镀膜机配备十二~三十二个弧源,待镀产品工件原材料放置1个真空室里面。
  磁过滤阴极真空弧沉淀工艺是近年来發展起來的1种新式离子束薄膜制取方式 ,它根据磁过滤工艺,进行过滤掉弧源造成的大顆粒和中性原子,得到无大顆粒的纯等离子束,有效的地摆脱了一般弧源沉淀方式 中因为大顆粒的普遍存在而造成的问题,制取的薄膜具备出色的性能指标,但其也普遍存在着一致命性缺陷那便是沉淀速度慢难以运用于工业化生产。
  磁过滤阴极弧源具备离化率高,适用于绝大多数金属与合金材料。根据电磁进行过滤优化,可以很好的进行过滤电弧源造成的液滴,从而造成薄膜质量。

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