多弧离子镀选用的是弧光放电，而并非传统式离子镀的辉光放电来进行堆积。简易的说，多弧离子镀的基本原理便是把负极靶做为挥发源，按照靶与正极外壳间的弧光放电，使靶材挥发，进而在空间中形成等离子，对基材来进行堆积。

　　有下面这几个优势：

　（1）从负极可以直接形成等离子，无需溶池，负极靶可按照产品工件样式在随意方位摆放，使工装夹具大幅简单化。

　（2）入射点粒子能量高，膜的致相对密度高，強度和耐用性好，粘附強度好。

　（3）离化率高，通常可达60%~80%。

　（4）从使用的方向讲，其突显优势是蒸镀速度快。

　　多弧离子镀工艺的基本原理主要是根据冷阴极真空环境弧光放电基础理论。引燃真空环境电弧后，负极靶材表层上出現某些不接连、大小和样式多种多样、亮堂的黑斑,这些在负极表层快速地做不规律的蠕动,某些黑斑灭掉时又有一些黑斑在别的位置形成，保持电弧的进行燃烧。

　　多弧离子镀机器设备通常较为简单，一整个机器设备主要是由真空镀膜机室、弧源、真空环境得到系统、偏压源等几大部分构成。