离子镀是真空系统中，运用气体自放电或被挥发成分部位离化，在气体离子或被挥发成分颗粒轰击功效的另外，将挥发物或生成物沉淀在基片上。离子镀把辉光放电状况、等离子技术工艺和蒸发设备三个有机结合起來，不但能非常明显地改善了膜品质，并且还增加了薄膜的运用区域。其优势是薄膜附着性强，绕射性好，膜材普遍等。

　　但是多弧离子镀与通常的离子镀具有非常大的差别。多弧离子镀选用的是弧光自放电，而并非传统式离子镀的辉光放电来进行沉淀。简便的说，多弧离子镀的工作原理便是把阴极靶做为挥发源，根据靶与阳极外壳间的弧光自放电，使靶材挥发，进而在空間中产生等离子，对基体来进行沉淀。

　　多弧电源技术工艺是离子镀技术工艺的1种改善方式 ，它是把弧光自放电做为金属材料挥发源的表面层镀层技术工艺．因为多弧离子镀技术工艺具备镀膜速率高，膜层的致密度大，膜的附着性好等特性，使多弧离子镀镀层在工具、模貝的超硬镀膜、裝饰镀膜等方面的运用愈来愈普遍，并将占有愈来愈主要的地位．